德國Hellma氟化鈣CaF?窗口片，采用坩堝下降法原生單晶生長，經(jīng)過高溫精密退火處理，**應(yīng)力雙折射≤0.5nm/cm，折射率均勻性優(yōu)異，有效降低波前畸變，是光譜儀器、航天空間光學(xué)、深紫外激光系統(tǒng)的高性能晶體元件。

　　該窗口片透光覆蓋130?nm?9?μm，從真空紫外延伸至中紅外波段，深紫外透過表現(xiàn)出眾，低色散、低熒光，可規(guī)避光譜檢測時的背景噪聲干擾。相較于普通氟化鈣產(chǎn)品，Hellma原廠材料內(nèi)部應(yīng)力控制嚴(yán)苛，內(nèi)部缺陷少，批次性能高度一致，避免因殘余應(yīng)力造成成像偏移、測量誤差，滿足高精度光學(xué)系統(tǒng)對光路穩(wěn)定性的硬性指標(biāo)。

　　高激光損傷閾值、抗電離輻射的材料特性，使其適配多類嚴(yán)苛工況。

　　應(yīng)用場景：各類FTIR傅里葉紅外光譜儀、紫外?可見分光光度計、拉曼分析設(shè)備的光學(xué)窗口；航天衛(wèi)星載荷、空間探測儀器窗口，抵御太空輻照環(huán)境；同時適配193/248nm準(zhǔn)分子激光、半導(dǎo)體光刻配套光路窗口、真空設(shè)備觀察窗。

　　供貨形態(tài)包含精磨毛坯、成品拋光窗口片，支持定制晶向、尺寸、表面質(zhì)量，可配套AR增透膜等鍍膜方案。德國原廠出品，每批次附帶COC檢測證書，應(yīng)力雙折射、透過率、均勻性等關(guān)鍵參數(shù)均可溯源，適合科研機構(gòu)、儀器廠商、航天及半導(dǎo)體企業(yè)選型采購。

　　1.精密光譜分析儀器

　　Hellma氟化鈣窗口片是FTIR紅外光譜、紫外光譜、拉曼光譜、微量熒光檢測設(shè)備的標(biāo)配光學(xué)窗口。

　　普通玻璃、石英無法透過中紅外波段，且自帶熒光干擾、折射率不均，會造成基線漂移、檢測誤差。HellmaCaF?窗口片低熒光、無背景干擾、130nm–9μm全波段通透，搭配極低應(yīng)力雙折射特性，光路穩(wěn)定性，可保證每一次光譜掃描基線平直、重復(fù)性高。廣泛用于材料成分分析、氣體檢測、環(huán)境監(jiān)測、醫(yī)藥檢測、化工高精度光譜分析設(shè)備，分析儀器廠商的核心光學(xué)配件。

　　2.半導(dǎo)體DUV光刻光學(xué)系統(tǒng)（高精度制程場景）

　　專為193nm/248nm準(zhǔn)分子激光光刻**設(shè)計，是先進制程光刻設(shè)備的關(guān)鍵基材。

　　光刻光路對波前畸變、色差、均勻性要求高，Hellma氟化鈣經(jīng)過精密退火，應(yīng)力雙折射≤0.5nm/cm，折射率均勻性，可大幅抑制光路色差與成像偏移。廣泛用于光刻投影物鏡、照明系統(tǒng)鏡片、激光諧振腔窗口、真空隔離窗口，穩(wěn)定支撐7nm–45nm芯片微納制程精度，長期高能量激光輻照下不衰減、不畸變，是國際主流光刻設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)材料。

　　3.高功率準(zhǔn)分子激光與深紫外激光設(shè)備

　　適用于ArF、KrF準(zhǔn)分子激光、深紫外加工激光、科研高能激光系統(tǒng)。

　　Hellma氟化鈣具有高激光損傷閾值、低非線性折射率、抗紫外老化優(yōu)勢，高能激光持續(xù)沖擊下不會產(chǎn)生應(yīng)力形變、光斑畸變。常用于激光輸出窗口、真空腔密封窗口、光束整形鏡片、激光檢測光路，解決普通光學(xué)材料容易燒點、老化、透光衰減的問題，適合工業(yè)精密加工、科研激光、醫(yī)療激光設(shè)備長期穩(wěn)定運行。

　　4.航天航空&空間天文光學(xué)

　　空間光學(xué)設(shè)備長期面對太空輻射、高低溫交變、真空環(huán)境，普通晶體容易性能漂移、產(chǎn)生雙折射偏差。

　　Hellma氟化鈣窗口片抗輻照、性能穩(wěn)定、無應(yīng)力漂移、超低光學(xué)畸變，可長期在軌穩(wěn)定工作。廣泛應(yīng)用于衛(wèi)星探測窗口、空間望遠鏡、深空紫外探測載荷、航空光學(xué)檢測系統(tǒng)，是國內(nèi)航天科研院所、天文觀測項目常用的進口光學(xué)晶體窗口。

　　5.真空設(shè)備&科研光學(xué)

　　適配真空紫外腔體、高能物理實驗設(shè)備、精密真空檢測窗口。

　　寬光譜透過、低放氣、高潔凈、光學(xué)一致性高，滿足高校實驗室、科研單位、精密設(shè)備研發(fā)需求。